Conditions Extrêmes et Matériaux : Haute Température et Irradiation
CEMHTI - UPR3079 CNRS

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2007

ACLN
doi

M.Raissi, G.Regula, C.H.Belgacem, C.Coudreau, S.Nitsche, B.Hollander, F.Robert, E.Ntsoenzok, J.L.Lazzari, 'Nanocavity buffer induced by gas ion implantation in silicon substrate for strain relaxation of heteroepitaxial Si1-xGex/Si thin layers', Mat. Res. Soc. Symp. Proc. 994 F11-08 (2007) doi:http://www.mrs.org/s_mrs/sec_subscribe.asp?cid=8756&did=197702&action=detail